所有的穿透式焊盘和过孔都要穿过电源层,由于电源层整块覆铜,因此在焊盘和过孔所处的位置,电源层都应盖该留出相应的一块区域不进行覆铜,即焊盘和过孔的铜膜与电源层铜膜之间应该留有一定的间距,以免与电源层发生短路.高密度互连积层多层板工艺,是电子产品的"轻、薄、短、小"及多功能化发层的产物。有关资料报导,在技术指标上有些较为明确的介定: 1)微导通孔(包括多层盲孔PCB,多层埋孔PCB)的孔径≤Φ0.1毫米;孔环≤0.25毫米;2)微导通孔的孔密度≥600孔/平方英寸;导线宽间距≤0.10毫米;4)布线密度(设通道网格为0.05英寸)超过117英寸/平方英寸。从技术指标说明实现PCB高密度化,采用微导通孔技术是一条切实可行的技术途径。所以其分类也常按照微导通孔形成工艺来分为四种:
1.致法成孔积层多层板工艺
2.2.离子体蚀孔制造积层多层线路板工艺
3.3.射流喷砂法成孔积层多层板工艺
4.激光成孔积层多层线路板工艺
高密度互连积层多层板还有另外三种常用分类叫法,一是按积电层多层板的介质材料种类分:1)用感光性材料制造积层多层板、2)用非感光性材料制造积层多层板。二是按电气互连方法分类:1)电镀法的微导通孔互连的积层多层板、2)导电胶法的微导通孔互连的积层多层板。三是按"芯板"分类:1)有"芯板"结构、2)无"芯板"结构(无芯板结构是在半固化片上用特种工艺技术制造高密度互连积层多层板)。
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